JK08-13-2ACVD高温管式气氛炉
产品简介
CVD管式气氛炉适用于CVD工艺,如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容器(MLCC)气氛烧结等实验。
产品详细信息
JK08-13-2ACVD高温管式气氛炉
JK08-13-2ACVD高温管式气氛炉 产品特点:
可根据用户需要设计生产(二温区、三温区、多温区),可预抽真空,通多种气氛。真空泵、阀采用进口设备,性能可靠。控制电路选用模糊PID程序控制技术,具有控温精度高,温冲幅度小,性能可靠,简单易操作等特点。在预热方式上设有本公司自主研发的自动升温预热程序。在程序下完全不需要操作人员监看、调整工作电流,可将工作人员从繁琐的操作中解放出来。本系列CVD高温管式气氛炉制造技术已达国内**水平。
JK08-13-2ACVD高温管式气氛炉 技术参数:
型号 | JK08-13-2A |
设计温度 | 1000-1300℃ |
控温精度 | ±1℃ |
极限真空度 | -0.01mpa(机械泵) |
温区 | 双温区 |
管径长度 | Ф100*1200 |
输入功率 | 9KW |
电源电压 | AC380V |
加热原件 | 硅碳棒、镍铬丝 |
JK08-13-2ACVD高温管式气氛炉