净化工程 半导体无尘室黄光区操作规定
1. 湿度及温度会影响对准工作，在黄光区应注意温度及湿度，并应减少对准机附近的人，以减少湿、温度的变化。
2. 上妥光阻尚未曝光完成之芯片，不得携出黄光区以免感光。
3. 己上妥光阻，而在等待对准曝光之芯片，应放置于不透明之蓝黑色晶盒之内， 盒盖必须盖妥。
4. 光罩使用时应持取边缘，不得触及光罩面，任何状况之下，光罩铬膜不得与他物接触，以防刮伤，光罩之落尘可以氮**吹之。
5. 曝光时，应避免用眼睛直视曝光机汞灯。
分享资讯来自：http://www.dgsuncum.com 转载请注明出处
净化工程咨询：http://www.suncum.com.cn
无尘设备定做：http://www.xhjh.com.cn
即时服务专线：0769-8870 8899 189 2826 0088 罗经理