半导体洁净车间的设计原则 净化工程网
一般原则 （1）要按车间分工确定的车间生产纲领和生产类型为依据，确定车间的生产组织形式和设备布局的形式。
（2）要求工艺流程通顺，物料搬运短捷方便，避免往返交叉。
（3）要根据工艺流程选择适当的建筑形式，采用适当的高度、跨度、柱距，配备适当等级的起重运输设备，充分利用建筑物的空间。
（4）要对车间的所有组成部分，包括机器、工作位置、毛坯与零件存放地、检验试验用地、辅助部门、通道、公用管线、办公室、生活卫生设施等，合理区划和协调配置。
（5）为工人创造**、舒适的工作环境，使采光、照明、通风、采暖、防尘、防噪音等具有良好的条件，将工位器具设在合适的部位，便于工人完成作业。
（6）具备适当生产变化的柔性。
设备布局
以前，不同的工艺设备都放置在同一个车间，或者把相关工艺的设备摆放在一起，比如把所有的防湿工作台和蚀刻系统放在一起，这样虽然有利于改进工作量的平衡和设备的生产率，但这种紧密摆放的方法容易因为晶圆片需要在各工序之间传送很长的距离而导致生产周期的延长。
近年来，在半导体制造业中大多数已在投产使用的8英寸晶圆制造车间和那些为将来投产使用设计的12英寸晶圆制造车间采用隔间的布局构造 [4,6]。在这种方式中，车间被分为许多隔间来放置工艺设备，通常每个隔间都放置一批相同的设备，比如在光刻区放置的都是曝光机。在每个隔间中都设有缓冲区，可以存放等待加工的晶圆片。由于制造过程中需要大量的气体和液体来氧化和清洗晶圆片，车间一般都分为两层，上层放置设备，晶圆片的缓冲区等；下层为各种气体、液体输送及回收管道，此外还有电力、照明、控制、通信等各种电气管线。
在8英寸和12英寸的晶圆制造车间中存在其他更优的布局策略，并且具有诸多优点：**，有利于设备的操作和维护，并能为将来设备的添加提供一定的空间；**，因为每个隔间都有自己的缓冲区，所以设备利用和相对库存都能够达到*优，从而减小生产周期；第三，由于不同的工艺对设施有着独特的要求；比如光刻区需要隔震，隔间布局能满足不同工艺的不同要求。图1是一个12英寸晶圆片制造车间目前采用的布局构造
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